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一种含有邻硝基苄酯光降解基团的两亲性分子及其合成方法
  • 专利号:
    201910351409.0
  • 专利类型:
    发明专利
  • 申请日:
    2019-04-28
  • 所属行业:
    化学冶金 - 化学
  • 授权日:
    2020-06-02
  • 法律状态:
    下证
价格:
面议
交易方式:
转让
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  • 专利详情

    本发明公开一种新型光降解两亲性分子及其合成方法,属于表面活性剂领域。其合成有五步反应:(1)以二乙烯三胺五乙酸为原料乙酸酐做脱水剂吡啶催化脱水生成二乙烯三胺五乙酸双酐;(2)6‑硝基胡椒醛在氯化铝和氢溴酸的作用下脱去亚甲基;(3)4,5‑二羟基‑2‑硝基苯甲醛与溴代烷在碱性情况下发生醚化反应;(4)4,5‑二烷氧基‑2‑硝基苯甲醛在还原剂作用下还原成4,5‑二烷氧基‑2‑硝基苯甲醇;(5)4,5‑二烷氧基‑2‑硝基苯甲醇与过量二乙烯三胺五乙酸双酐发生酯化反应,得到领硝基苄酯两亲性分子。本发明邻硝基苄醇衍生物与二乙烯三胺五乙酸双酐反应条件温和,使用过量二乙烯三胺五乙酸双酐降低副反应的发生,该两亲性分子具有良好的紫外光降解性能。

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