本发明提供一种水热法制备Ni(OH)2纳米片阵列薄膜的方法，其步骤是：(1)将表面干净的衬底置于浓硫酸与双氧水的混合液中，煮沸至无气泡产生；(2)将上述衬底置于纯油酸中，在70℃的水浴锅内2～4h后取出，去除多余油酸，然后再置于高锰酸钾溶液中浸泡4～8h，完成衬底的羧基化；(3)将氨水滴加到醋酸镍乙醇溶液中至混合溶液pH值为8～9，搅拌制成Ni(OH)2溶胶；(4)将羧基化后的衬底在Ni(OH)2溶胶中浸渍提拉2～3次，在衬底上预置Ni(OH)2晶种；(5)将镍盐溶液和六次甲基四胺溶液按等摩尔比均匀混合制成Ni(OH)2生长液，然后倒入水热反应釜中，同时将预置有Ni(OH)2晶种的衬底放入生长液中，在70～80℃保温2～4h后，再升温至160～180℃保温为6～10h，自然冷却后取出衬底洗涤干燥，即可获得Ni(OH)2纳米片阵列薄膜。

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