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一种纳米银修饰的还原氧化石墨烯杂化结构的原位还原制备方法
  • 专利号:
    201711421294.5
  • 专利类型:
    发明专利
  • 申请日:
    2017-12-25
  • 所属行业:
    化学冶金 - 化学
  • 授权日:
    2020-01-14
  • 法律状态:
    下证
价格:
面议
交易方式:
转让
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  • 专利详情

    一种纳米银修饰的还原氧化石墨烯杂化结构的原位还原制备方法。本发明属于碳基金属复合材料领域,具体涉及一种纳米银修饰的还原氧化石墨烯杂化结构的原位还原制备方法。本发明解决石墨烯在制备杂化结构过程中易团聚、纳米银颗粒由于尺寸效应易团聚、碳基金属杂化结构制备过程复杂且能耗高、纳米颗粒在石墨烯表面原位还原过程中所使用还原剂具有毒性的问题。方法:一、制备氧化石墨烯/银源分散液;二、制备纳米银修饰的还原氧化石墨烯杂化结构粉体。所述制备方法通过一步原位还原反应制备,操作过程简单,低耗能,产率高,能够用于纳米银/石墨烯杂化结构的批量化生产。

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