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一种高纯半绝缘碳化硅单晶的制备方法
  • 专利号:
    201711121551.3
  • 专利类型:
    发明专利
  • 申请日:
    2017-11-14
  • 所属行业:
    化学冶金 - 化学
  • 授权日:
    2019-11-12
  • 法律状态:
    下证
价格:
面议
交易方式:
转让
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  • 专利详情

    本发明属于晶体生长技术领域,具体涉及一种高纯半绝缘碳化硅单晶的制备方法,本发明通过在原料中降低电活性杂质的同时引入原子尺寸较大的IVA族元素,晶体生长过程中采用掺杂SiC原料长晶,将适量的IV族元素引入SiC晶体中,从而提高晶体中本征点缺陷的浓度,实现对浅能级杂质的充分补偿,实现SiC晶体的半绝缘特性。使用本发明生长高纯半绝缘SiC晶体无需通过快速降温实现,从而减小了晶体应力,提高了晶体质量;此外,通过控制掺杂浓度可以很好的控制引入到晶体中的本征点缺陷浓度,从而实现了对晶体电阻率的调控。

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       1)提交订单:需求方选定所需专利,在线提交订单或直接与客服联系

        (2)签订协议:需求方与IP成金网签订专利权转让协议或专利许可协议

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        (4)变更手续:专利持有方收到预付款项后,向IP成金网交付专利转让或许可所需全部资料;IP成金网向国家知识产权局提交变更或备案材料,完成变更或备案手续,国家知识产权局1个月左右下发变更的《手续合格通知书》或《专利实施许可合同备案证明》

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        (6)交付证书:专利权转让需交付证书,IP成金网向专利持有方支付剩余款项,并向需求方交付《专利证书》、《专利转让手续合格通知书》原件,至此专利转让合同完成

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