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一种高导电率石墨烯膜的制备方法及高导电率石墨烯膜
  • 专利号:
    201710715474.8
  • 专利类型:
    发明专利
  • 申请日:
    2017-08-20
  • 所属行业:
    化学冶金 - 化学
  • 授权日:
    2019-06-25
  • 法律状态:
    下证
价格:
面议
交易方式:
转让
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  • 专利详情

    本发明涉及碳纳米材料技术领域,具体涉及一种高导电率石墨烯膜的制备方法及高导电率石墨烯膜,所述高导率石墨烯膜的制备方法包括以下步骤:(1)在膨胀石墨中插层金属离子,制成石墨烯悬浮液;(2)悬浮液涂布在基底上;(3)采用磁控溅射法在上述基底上沉积金属和石墨烯的复合薄膜;(4)在复合薄膜上涂布石墨烯薄膜;(5)除去基底,得到高导电率石墨烯膜;本发明通过金属离子和原子对石墨烯进行改性,有效阻止石墨烯的团聚,提高了石墨的导电性,通过多层薄膜复合得到的石墨烯膜,具有较高的致密度。

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