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一种氢源装置及其制造方法、以及氢原子频标
  • 专利号:
    201710587771.9
  • 专利类型:
    发明专利
  • 申请日:
    2017-07-18
  • 所属行业:
    化学冶金 - 化学
  • 授权日:
    2019-04-19
  • 法律状态:
    下证
价格:
面议
交易方式:
转让
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  • 专利详情

    本发明提出了一种氢源装置,包括硅基腔以及在中压状态下封装在硅基腔中储氢材料,所述硅基腔上设有向氢原子频标输送氢源的出口,所述储氢材料为在过饱和氢气环境中吸附氢后的储氢材料。本发明提出了一种氢源装置的制造方法,包括步骤:将储氢材料在中压状态下生长在硅基腔中;向硅基腔中注入过饱和氢气;将硅基腔封装;在所述硅基腔上设置向氢原子频标输送氢源的出口。本发明提出了一种氢原子频标,包括所述氢源装置。本发明使氢源微型化,同时,在氢原子频标中使氢气循环利用,实现了氢源的闭环微系统,解决传统开放式原子制备系统效率不高的缺点,促使氢原子频标实现芯片级体积。

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        (6)交付证书:专利权转让需交付证书,IP成金网向专利持有方支付剩余款项,并向需求方交付《专利证书》、《专利转让手续合格通知书》原件,至此专利转让合同完成

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