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制备高比表面积的光刻胶-石墨烯材料的复合体系的方法
  • 专利号:
    201710576149.8
  • 专利类型:
    发明专利
  • 申请日:
    2017-07-14
  • 所属行业:
    化学冶金 - 化学
  • 授权日:
    2019-04-12
  • 法律状态:
    下证
价格:
面议
交易方式:
转让
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  • 专利详情

    本发明涉及一种制备光刻胶‑石墨烯材料的复合体系的方法,其包括:1)提供包含石墨烯材料和光刻胶的混合物;2)采用掩模图形版对由步骤1)得到的混合物进行曝光;和3)用显影液处理由步骤2)得到的曝光的材料以除去未交联部分,得到光刻胶‑石墨烯材料的复合体系,其中所述石墨烯材料选自石墨烯、氧化石墨烯及其混合物。本发明方法工艺简单且所得复合体系具有高比表面积。所得复合体系适用于制备催化剂载体、表面吸附材料和微传感器。

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