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一种开放体系SiC纳米线的制备方法
  • 专利号:
    201710550930.8
  • 专利类型:
    发明专利
  • 申请日:
    2017-07-07
  • 所属行业:
    化学冶金 - 化学
  • 授权日:
    2019-03-05
  • 法律状态:
    下证
价格:
面议
交易方式:
转让
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  • 专利详情

    本发明公开了一种开放体系SiC纳米线的制备方法。将盛有金属硅粉的石英坩埚放入管式炉中间区域,并在管式炉的低温段铺设石墨纸;根据反应所需要的温度来设定管式炉的升温程序,根据液态碳源注射量的多少来设定反应保温时间;当温度达到反应所需要的温度时,开启液态碳源的数字注射泵,将碳源注入管式炉内,液态碳源通过高温裂解气化得到碳源,再通过氩气输送至管式炉反应段进行碳热还原反应;待液态碳源注射结束后,开始启动降温程序降至常温,在石墨纸上沉积有SiC纳米线。本发明首次采用乙醇或丙醇为碳源,硅粉为硅源,在开放体系中制备SiC纳米线。相比于背景技术,具有低能源消耗,工艺简单,无需催化剂和连续制备等优点。

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