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一种激光冷壁环境控制的石墨烯生长系统
  • 专利号:
    201710498531.1
  • 专利类型:
    发明专利
  • 申请日:
    2017-06-27
  • 所属行业:
    化学冶金 - 化学
  • 授权日:
    2020-05-08
  • 法律状态:
    下证
价格:
面议
交易方式:
转让
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  • 专利详情

    本发明属于石墨烯生长设备技术领域,具体涉及一种激光冷壁环境控制的石墨烯生长系统,通过将加热单元由传统的电阻丝加热改为激光加热,为石墨烯晶体的形核与生长过程提供了稳定的催化背景,为高质量二维晶体的生长提供了有力保障;同时激光加热使反应腔内环境温度始终保持低温,不需提供额外的冷却系统,使得设备结构更加紧凑,并且有效地缩短了石墨烯生长的时间,提高了制备效率;通过四极质谱仪和关联双向反馈系统,可以实时追踪石墨烯生长气氛,实现精确调控反应环境,并使得供气系统与侦测系统形成动态输出与反馈体系,从而实现对石墨烯生长参数的精确调控;通过精确调控反应气氛实现一台设备生产不同品质用途的石墨烯。

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