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一种实现碲化镓(GaTe)二维材料激子激光发射的方法
  • 专利号:
    201710301566.1
  • 专利类型:
    发明专利
  • 申请日:
    2017-05-02
  • 所属行业:
    化学冶金 - 化学
  • 授权日:
    2019-05-10
  • 法律状态:
    下证
价格:
面议
交易方式:
转让
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  • 专利详情

    本发明公开了一种实现碲化镓(GaTe)二维材料激子激光发射的方法,其工艺步骤如下:a)在蓝宝石衬底上制备氧化锌(ZnO)六角微米盘,作为GaTe材料激射的谐振腔;b)在长有ZnO六角微米盘的蓝宝石衬底上合成GaTe材料,作为激射的增益物质;c)使用扫描电子显微镜、拉曼、原子力显微镜、透射电镜等表征手段表征所合成复合结构,然后在532nm飞秒激光泵浦下测试GaTe的发光性质。所述ZnO六角微米盘尺寸大小以及GaTe材料的厚度等参数通过调节气流量和温度等条件来控制。本发明高效而且合成可控,制备得到的GaTe/ZnO六角微米盘有很高的结晶质量,不仅对新型二维材料GaTe的合成有了更进一步的研究,而且第一次实现了GaTe单层激子激光发射。

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