本发明公开了一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，属于真空镀膜设备领域。本发明的镀膜机包括真空室、开卷机构、冷却辊、收卷机构、阴极小室、回转换靶装置和纠偏装置，开卷机构和收卷机构处各设置一组纠偏装置；阴极小室和回转换靶装置设于冷却辊的下部，且冷却辊、阴极小室和回转换靶装置处于同一轴线上；回转换靶装置包括机座、回转盘、均匀分布于回转盘上的极靶座板；极靶座板旋转到阴极小室的下方，并向外伸出将靶芯嵌入阴极小室内；开卷机构和收卷机构带动基带往复运动。本发明在不打开镀膜真空室的情况下即可及时更换阴极靶，并利用基材往复运动实现多层膜层的镀制，每层膜均单独镀制，便于膜层参数控制；设备结构紧凑，占地空间小。

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