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一种(001)晶面暴露的纳米硅酸盐材料及制备方法
  • 专利号:
    201710124148.X
  • 专利类型:
    发明专利
  • 申请日:
    2017-03-03
  • 所属行业:
    化学冶金 - 化学
  • 授权日:
    2019-07-12
  • 法律状态:
    下证
价格:
面议
交易方式:
转让
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  • 专利详情

    本发明提供了一种(001)晶面暴露的纳米硅酸盐材料,材料粉体粒径为纳米级,正交晶系,在高分辨透射电子显微镜下显示有带轴斑点。其制备方法是将锂盐与硅源加入至有机介质溶剂1,得到溶液1;将金属M的盐加入到有机介质溶剂2,M为Fe、Mn或Co中的一种,得到溶液2;将溶液2滴加到溶液1中再将混合溶液于2‑10Mpa压力,150~250℃温度下反应6‑120小时,经后处理得到(001)晶面暴露的硅酸盐材料。本发明的材料由于(001)晶面暴露,材料中锂离子实现了快速迁移,使得本发明的材料在用于锂离子电池正极材料时,其电化学性能优良。另外本发明该方法可重复性高,制备工艺简单。

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