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一种碳氮硼纳米片光抗菌材料的制备方法
  • 专利号:
    201710052228.9
  • 专利类型:
    发明专利
  • 申请日:
    2017-01-24
  • 所属行业:
    化学冶金 - 化学
  • 授权日:
    2018-11-27
  • 法律状态:
    下证
价格:
面议
交易方式:
转让
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  • 专利详情

    本发明公开了一种碳氮硼纳米片光抗菌材料的制备方法,具体包括以下步骤:(1)前驱体的制备:往氮源溶液中加入硼源,超声溶解后,加入二氧化硅微球溶胶或氧化铝纳米颗粒作为模板,蒸干,然后取出研磨均匀;(2)前驱体的煅烧:将步骤(1)制得的前驱体置于马弗炉中,煅烧,随后冷却,取出研磨均匀;(3)模板的去除:将步骤(2)研磨均匀的材料加入到氟化氢铵溶液或盐酸溶液中,振摇提纯后制得产品。本发明制得的碳氮硼纳米片光抗菌材料具有片层结构,层堆积较少,表面电势较高,稳定性较好,经过高温高压处理后仍能保持抗菌效果;该产品可见光捕获能力明显增强,无需与其他化合物复合,就能在可见光下对大肠杆菌产生明显的抗菌作用。

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