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一种二氧化硅膜孔径的调控方法及其应用
  • 专利号:
    201710028138.6
  • 专利类型:
    发明专利
  • 申请日:
    2017-01-13
  • 所属行业:
    化学冶金 - 化学
  • 授权日:
    2019-03-22
  • 法律状态:
    下证
价格:
面议
交易方式:
转让
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  • 专利详情

    本发明涉及一种二氧化硅膜孔径的调控方法及其应用,调控方法包括步骤:烷氧基硅烷、水和HCl的水解聚合反应,制备倍半硅氧烷溶胶;将与SiO 2 ‑ZrO 2 溶胶混合的二氧化硅玻璃颗粒涂覆在多孔玻璃管上,高温条件下煅烧得到膜的过渡层;将倍半硅氧烷溶胶擦涂在过渡层上,涂完后煅烧得到二氧化硅膜;把二氧化硅膜置于氨气气氛中进行原位反应,得到改性后的二氧化硅膜。本发明的有益效果是:氨气中的原位反应,在二氧化硅结构中形成Si‑NH 2 和/或Si‑NH基团,使膜的网络结构变的更加致密,导致H 2 的渗透率比初始值降低了大约40%,但其他气体如CO 2 、N 2 、CH 3 等的渗透率比H 2 降低的更多,使得改性后的SiO 2 膜对H 2 具有较高的选择性,该膜在氢气分离系统中对氢气表现出优异的选择性。

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