本发明公开了一种多晶硅还原炉及使用多晶硅还原炉生长多晶硅的方法，多晶硅还原炉的炉腔由隔板分隔为至少两个子炉腔，隔板上设置有开口，开口邻近炉腔的炉顶或炉底，其中一个子炉腔内设置有用于进气的进气口，其余的至少一个子炉腔内设置有用于排气的出气口，通入到设置有进气口的子炉腔内的供料气通过隔板的开口流入到相邻的子炉腔内，设置有进气口的子炉腔内的供料气和与其相邻的子炉腔内的供料气的流动方向相反。本发明中的子炉腔成为平推流反应器，供料气在子炉腔内朝着一个方向流动，防止子炉腔内的气流逆向发生扰动，从而使得气体流速和温度在子炉腔内的硅棒根部至顶部的分布更加均匀，尤其是消除硅棒横梁周围的滞流现象，减少横梁菜花料。

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